- Nazwa przedmiotu:
- Wytwarzanie struktur warstwowych II
- Koordynator przedmiotu:
- dr hab. inż. Jerzy Bieliński, prof. PW dr inż. Andrzej Królikowski
- Status przedmiotu:
- Obowiązkowy
- Poziom kształcenia:
- Studia II stopnia
- Program:
- Technologia Chemiczna
- Grupa przedmiotów:
- Podstawowe
- Kod przedmiotu:
- brak
- Semestr nominalny:
- 2 / rok ak. 2013/2014
- Liczba punktów ECTS:
- 1
- Liczba godzin pracy studenta związanych z osiągnięciem efektów uczenia się:
- Liczba punktów ECTS na zajęciach wymagających bezpośredniego udziału nauczycieli akademickich:
- Język prowadzenia zajęć:
- polski
- Liczba punktów ECTS, którą student uzyskuje w ramach zajęć o charakterze praktycznym:
- Formy zajęć i ich wymiar w semestrze:
-
- Wykład15h
- Ćwiczenia0h
- Laboratorium0h
- Projekt0h
- Lekcje komputerowe0h
- Wymagania wstępne:
- brak
- Limit liczby studentów:
- Cel przedmiotu:
- Celem przedmiotu jest zapoznanie studentów z podstawami technologii wytwarzania struktur warstwowych w procesach osadzania i trawienia z reakcji chemicznych i elektrochemicznych w roztworach wodnych i niewodnych. Analiza wybranych technologii z różnych gałęzi przemysłu.
- Treści kształcenia:
- Celem przedmiotu jest zapoznanie studentów z podstawami technologii wytwarzania struktur warstwowych w procesach osadzania i trawienia z reakcji chemicznych i elektrochemicznych w roztworach wodnych i niewodnych. Analiza wybranych technologii z różnych gałęzi przemysłu. Wykład obejmuje kolejne zagadnienia:
1. Procesy przygotowania powierzchni podłoży do wytwarzania struktur warstwowych z wykorzystaniem procesów chemicznych i elektroche-micznych; odtłuszczanie chemiczne i elektrochemiczne, trawienie i polerowanie chemiczne i elektrochemiczne. Metody przygotowywania podłoży nieprzewodzących prądu.
2. Osadzanie materiałów warstwowych metodą sol-gel.
3. Osadzanie warstw metali i stopów metodami chemicznymi z roztworów wodnych i niewodnych, soli stopionych; bezprądowa metalizacja zanurzeniowa i katalityczna.
4. Metody trawienia materiałów warstwowych z zastosowaniem roztworów wodnych. Kształtowanie struktur metodą fotolitografii.
5. Inne metody modyfikacji powierzchni materiałów z wykorzystaniem procesów chemicznych i elektrochemicznych w roztworach wodnych; wytwarzanie warstw pasywacyjnych (oksydowanie, fosforanowanie).
6. Przegląd wybranych właściwości fizykochemicznych otrzymywanych warstw i układów warstwowych.
7. Wybrane przykłady współczesnych technologii przemysłowych (elektronika, motoryzacja, sprzęt użytku domowego).
- Metody oceny:
- Zaliczenie pisemne
- Egzamin:
- Literatura:
- 1. J. Głuszek, Tlenkowe powłoki ochronne otrzymywane metodą sol-gel, Wyd. Pol. Wrocławskiej, Wrocław 1998.
2. Poradnik galwanotechnika, red. T. Żak, WNT, Warszawa 2002.
3. A. Ciszewski, Podstawy inżynierii elektrochemicznej, Wyd.Pol. Poznańskiej, Poznań 2004.
4. Electroless Plating: Fundamentals and Applications, ed. G.O. Mallory, J.B. Hajdu, AESF, Publ., Orlando 1990.
5. M. Paunovic, M. Schlesinger, Fundamentals of Electrochemical Deposition, John Wiley & Sons, New York 1998.
- Witryna www przedmiotu:
- Uwagi:
Efekty uczenia się